陸首臺EUV如何誕生？ASML消失的工程師「改名換姓」大揭密

大陸第一臺EUV曝光機，花了6年保密打造。（示意圖/達志影像/shutterstock）

路透報導，中國大陸爲突破美國半導體技術封鎖，日前傳出重大進展。2025年初，深圳一處高度保密的實驗室已成功打造出製造先進半導體的極紫外光（EUV）原型機。知情人士透露，雖然原型機仍落後於荷蘭艾司摩爾（ASML）的EUV設備，主要原因在於研究人員無法取得德國蔡司公司（Carl Zeiss）提供的光學系統，但原型機已足以進行測試運轉。

這項被稱爲「中國版曼哈頓計劃」的秘密專案已運作六年，由華爲擔任核心協調者，串聯多家研究機構與企業，動員數千名工程師參與。知情人士表示，北京政府對該計劃指示明確，涉及國家安全，除專案內部人員外，外界不得知其具體運作或地點。

據一位熟悉招聘的人士透露，華爲從ASML公司招募到多位資深工程師，並以高額簽約金與購屋補貼吸引他們前往深圳工作，部分薪資高達人民幣300萬至500萬元（約新臺幣1320萬至2200萬元）。進入實驗室後，這些工程師需使用假名以維護機密，部分人甚至認出了前同事，也都必須遵循保密要求。

知情人士指出，專案團隊中包含近期退休的華裔ASML工程師與科學家，這些人掌握關鍵技術知識，但職業限制較少，因此成爲首要招募目標。兩名現任ASML華裔員工表示，自2020年起，華爲人員便開始與他們接觸。這些前員工的專業知識，使深圳團隊能在EUV技術上進行逆向工程，否則計劃不可能取得實質進展。

中國大陸的EUV原型機雖然粗糙，但可進行基礎測試。知情人士指出，缺乏蔡司光學系統是主要瓶頸，但中國大陸團隊透過拆解舊有ASML設備、二手市場採購零組件，並利用中間商網絡掩蓋最終買家身分，有時也使用日本尼康與佳能遭出口管制的元件。

此外，約有100名大學畢業生專門負責極紫外光（EUV）與深紫外光（DUV）光刻機的拆解與組裝逆向工程。每人的工作區均設置監視器，完整記錄拆解與組裝流程，成功完成任務者還可獲得獎金。

SemiAnalysis前ASML工程師Jeff Koch表示，中國大陸若能掌握穩定且功率足夠的光源，將可取得「有意義的技術進展」。他認爲，中國的優勢在於已有商用極紫外光刻技術作爲基礎，而非完全從零起步。

4名知情人士指出，雖然EUV計劃由中國政府主導，但華爲參與了從晶片設計、製造設備到生產製造的整條供應鏈。華爲創辦人任正非會直接向大陸高層彙報進度，且公司在全國各地辦公室、製造工廠及研發中心部署員工參與專案。

被分派到半導體團隊的員工通常需在工作地點住宿，工作期間不得回家，部分負責敏感任務的團隊甚至限制手機使用。華爲內部對計劃的整體內容瞭解極少，各個小組間保持高度隔離，甚至無法得知其他團隊在執行的任務。這種高度保密與嚴格控制，正是中國大陸EUV計劃能在短時間內取得初步突破的重要原因。